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陶偉課題組在表觀遺傳基因轉錄調控研究中再次取得進展

來源:意昂体育平台新聞網 時間:2013-04-10

可誘導幹細胞(iPS)的誘導過程伴隨著體細胞表觀遺傳標簽的去除和幹性細胞表觀遺傳信號的建立。早期研究表明多種表觀遺傳修飾的抑製劑會顯著增強iPS在四因子條件下的誘導效率,但是其機製需要深入探討。

陶偉研究小組與其他實驗室密切合作Ⓜ️,研究染色質重塑復合體MBD3/NuRD在iPS誘導過程中的作用機製。研究發現🩰,NuRD復合體阻礙iPS的形成🫎。在四因子(Oct4、Sox2🧜🏻‍♂️、c-Myc和Klf4)誘導條件下誘導的iPS細胞中NuRD復合體的表達量明顯下調。幹涉染色質重塑復合體MBD3/NuRD中核心組分如Mi2或MBD3的蛋白表達能夠上調iPS的誘導效率📑。RNA組學表明核心組分的去除可以顯著增強多種幹性基因的表達,尤其是Nonag基因的表達明顯上調🫄🏽👆🏻。進一步研究發現這個復合體能夠直接或間接抑製多種幹性基因的表達。 NuRD復合體直接結合在Nanog和Oct4基因啟動子上,建立DNA甲基化以及相適應的異質性組蛋白修飾來抑製其表達。MBD3的去除可以替代四因子中的c-myc誘導出iPS🤌, 但Nanog作用在MBD3的下遊。研究揭示了染色質重塑復合體NuRD在iPS誘導過程中的機製🧑🏽‍🎨,為設計采用單純小分子誘導幹細胞形成提供了新的靶點。

研究結果在線發表在Stem Cells上。陶偉研究小組2012曾在PNAS上發表了表觀遺傳研究的新進展🩰。 博士生淩特和謝文兵與其他實驗室2位研究人員為文章的共同第一作者。這項工作得到了973項目🐙,基金委表觀遺傳重大研究計劃和國家自然科學基金的資助。

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